也全都拼了老命。
每天晚上熬到凌晨十二点，第二天早上八点雷打不动地出现在工位上。
中午除了吃两口饭，连个打盹的时间都不肯浪费。
所有的心血和汗水，终于在这一刻结出了人类工业史上最璀璨的果实！
第一台真正意义上的现代光刻机，在他们手中诞生了！
但激动归激动，机器是不是真能用，还得看能不能顺利刻出第一枚芯片来验证。
光刻机的原理，说白了其实不复杂。
就是把高强度的极紫外光，透过刻有微缩电路图的光掩模版，精准地投射到涂满光刻胶的硅晶圆上。从而在纳米级的微观世界里，蚀刻出复杂到令人发指的立体电路结构。
为了配合光刻机的进度，确保机器一点火就能立刻试生产。
隔壁的芯片研发攻坚组，这几天同样是没日没夜地连轴转。
他们最核心的任务，就是手工赶制第一批试验用的“光掩模版”。
掩模版，就是芯片制造的“图纸底片”。
目前的这批掩模版，是采用高透光率的特种玻璃制成的。表面涂覆着特定的感光胶。
在没有EDA工业设计软件和计算机辅助的六十年代，这绝对是个地狱级的折磨。
专家们只能拿着放大镜和特制刻刀，一笔一划地在玻璃基板上进行手工微雕，然后再通过化学蚀刻，把电路图固定在上面。
这个过程繁琐且极易出错，稍有手抖，整块掩模版就直接报废。
在林伟正的亲自指导下，芯片组经历了无数次失败，终于在昨天成功刻出了第一张完美的掩模版！
这张掩模版上的电路图，是林伟正亲自操刀设计的1微米制程芯片！
这款芯片并不复杂，它是一颗专门为高精度数控机床和未来汽车中控设计的专用处理器。
对于工业设备来说，不需要太恐怖的浮点运算能力。这颗1微米芯片，已经足以完美胜任所有数控化指令。
在全场四百双眼睛的死死注视下。
林伟正深吸了一口气，亲自上手，开始制作人类历史上第一枚微米级芯片。
他熟练地将那张珍贵的掩模版装载进光刻机的卡槽里。
接着，取出一枚切割打磨得如同镜面般光滑的单晶硅片。
林伟正小心翼翼地把硅片放进前端的清洗舱。高压纯水和特殊溶剂交替喷洒，进行纳米级的无尘清洗。确保硅片表面没有一丝一
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